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VCSEL立式氧化炉VOF150-2是第一台可用于VCSEL侧氧工艺的国产低温氧化炉，支持晶圆尺寸为6英寸，温度范围覆盖300℃-500℃，恒温区长度达250mm，装载量为25片/批。该成果通过多温区控温和自适应PID动态热补偿算法在全面提升了国产低温氧化炉的控温精度和氧化均匀性。设备在稳定性、效率与工艺一致性上达国际顶尖水平。该产品填补了国内高端氧化设备的空白，并在低温控温精度和均匀性等方面达到国际领先水平。产品主要应用于如VCSEL湿氧工艺等对温度稳定性和均匀性要求较高的氧化工艺上，其行业赛道涵盖了光通信、激光显示、3D传感等多个领域。

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