科研实验靶材厂家-【陕西欧凯利靶材股份有限公司】

平面靶材是磁控溅射镀膜最常用的一类靶材，外形为平板状，常见矩形、圆形、方形，配套平板磁控溅射阴极使用。工作时等离子体轰击靶材表面特定跑道区域，原子被溅射出来沉积到基板表面形成功能薄膜。一般需要将靶材通过绑定工艺接合到金属背板上，起到导热与固定作用。
材质覆盖纯金属、合金、陶瓷氧化物；纯度从工业级到半导体超高纯均可定制，尺寸、厚度、定位孔、开槽按设备图纸加工。
材料特性与加工工艺
主流材质
纯金属：钛、锆、铌、钽、铪、钼、铝、铜、铬、镍等
合金：钛铝、镍铬、铜铟镓等
陶瓷氧化物：ITO、AZO、二氧化硅、氧化铝等
制备工艺
1. 坯体制备：熔炼 / 粉末冶金成型，锻造、轧制，真空退火，调控晶粒与致密度；
2. 精密机加工：铣、车外形，研磨靶面，控制平面度、粗糙度；
3. 绑定：铟焊、扩散焊、弹性夹持等方式，把靶材与铜 / 钼背板结合，保证导热；
4. 后处理：超声清洗、真空除气、探伤检测，降低镀膜时起弧、颗粒问题。
核心优势
1. 结构简单，加工周期短，打样、小批量生产成本可控；
2. 安装更换便捷，适配单片式镀膜设备、实验室镀膜机；
3. 材质选择丰富，金属、合金、陶瓷都可制作平面靶；
4. 靶面晶粒组织可控，小面积基板膜层均匀稳定。
产品局限
1. 溅射只集中在跑道区域，靶材利用率偏低；
2. 大功率长时间溅射时散热压力更大，易出现局部高温；
3. 不适用于大面积连续卷对卷、大板高速量产产线。
典型应用
1. 半导体行业：晶圆镀膜，高 k 介质膜、扩散阻挡层、金属栅层；
2. 光学镀膜：镜片、滤光片、光学元器件多层膜；
3. 显示行业：面板、光学膜片、触控导电膜；
4. 硬质涂层：刀具、模具、五金装饰耐磨防护膜；
5. 科研院校：实验室薄膜研发、样品试制。

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