难溶金属靶材厂家-【陕西欧凯利靶材股份有限公司】

铌平面靶材属于平板型磁控溅射靶材，外形多为矩形、圆形，采用高纯金属铌加工制成，背面通过绑定工艺接合无氧铜或钼背板，适配平板式磁控溅射阴极。氩离子轰击靶面可沉积金属铌薄膜；通入氧气、氮气反应溅射，可制备 Nb₂O₅五氧化二铌、NbN 氮化铌功能薄膜。多用于单片镀膜设备、小批量生产与科研试样场景。
纯度规格：3N5、4N、4N5；尺寸、厚度、定位孔可按设备图纸定制。
材料特性与加工工艺
材料特性
铌是难熔金属，熔点 2468℃，塑性优良，常温化学稳定性好，耐酸碱腐蚀；无磁性，不会干扰溅射磁场。
金属 Nb 膜：扩散阻挡层、耐腐蚀基底膜；
Nb₂O₅五氧化二铌：高折射率光学薄膜，广泛用于多层增透、减反膜系；
NbN 氮化铌：硬质防护膜，同时具备超导特性。
制备工艺
1. 坯体制备：真空熔炼铌锭，锻造、轧制，真空去应力退火，调控晶粒均匀性，降低溅射颗粒；
2. 精密机加工：切割、车铣成型，靶面研磨抛光，管控平面度与表面粗糙度；
3. 背板绑定：铟焊或扩散焊将铌材与背板结合，保障热量传导；
4. 后处理：超声洁净清洗、真空除气、探伤检测，减少镀膜起弧、颗粒缺陷。
核心优势
1. 平板结构，加工周期短，样品打样、小批量试制成本可控；
2. 靶材致密度高，晶粒均匀，小面积基板膜厚与成分一致性好；
3. 支持 DC 直流溅射，可通入反应气体制备氧化铌、氮化铌薄膜；
4. 膜层附着力优异，光学、半导体、超导多个领域均可适配。
产品局限
溅射刻蚀仅集中在靶面跑道区域，靶材利用率偏低；大功率长时间溅射工况，对背板水冷条件要求较高，不适用于大面积卷对卷连续量产产线。
典型应用
1. 光学镀膜：光学镜片、滤光片、红外元件，制备 Nb₂O₅高折射率多层光学膜；
2. 半导体微电子：铜互连扩散阻挡层；
3. 超导领域：NbN 超导薄膜制备，超导器件试样研发；
4. 精密防护涂层：精密构件耐磨耐腐蚀薄膜；
5. 科研院校：薄膜材料研发、真空镀膜实验。

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