高纯金属材料厂家-【陕西欧凯利靶材股份有限公司】

超高纯钛靶属于磁控溅射靶材，分为平面超高纯钛靶与超高纯钛旋转管靶两种形态，采用超高纯金属钛制备。平面靶一般绑定无氧铜背板，用于单片镀膜设备；旋转管靶配套衬管，用于大面积连续产线。氩离子轰击可沉积金属钛薄膜，通入氮气、氧气可反应溅射制备 TiN、TiO₂功能膜。
纯度规格：4N5（99.995%）、5N（99.999%），部分半导体场景可做到 5N5；牌号以高纯 TA1、超高纯钛坯为主，Fe、Cr、Ni、O、C 等杂质严格管控；外形尺寸、厚度、安装孔、法兰结构均可按图纸定制。
材料特性与加工工艺
材料特性
超高纯钛保留纯钛基础特性：熔点 1668℃，无磁性，耐蚀性好；核心差异在于极低杂质含量，金属杂质、气体杂质（氧、碳、氮）控制在很低水平，减少薄膜内部缺陷、颗粒与漏电风险。
金属 Ti 薄膜：粘附层、扩散阻挡层；
TiN 氮化钛薄膜：硬质阻挡层；
TiO₂氧化钛薄膜：光学介质膜。
制备工艺
1. 高纯坯料制备：采用电子束熔炼多次提纯，去除铁、铬、镍等金属杂质与氧碳气体杂质；锻造、轧制，真空退火调控晶粒组织；
2. 精密机加工：平面靶铣削、平面研磨抛光；管靶挤压、冷轧、外圆精车，严格控制形位公差；
3. 背板绑定：平面靶采用铟焊 / 扩散焊绑定无氧铜背板，保证导热；
4. 洁净后处理：超净环境超声清洗、真空除气、探伤检测，严控表面污染物，降低镀膜颗粒与起弧概率。
核心优势
1. 杂质含量低，溅射薄膜缺陷少，满足半导体、高端光学严苛良率要求；
2. 晶粒均匀可控，薄膜厚度、成分一致性好；
3. 支持 DC 直流溅射，可反应溅射生成氮化钛、氧化钛膜层；
4. 形态可选，平面靶适合晶圆单片、研发打样；旋转管靶适配大面积连续量产。
产品局限
平面超高纯钛靶依旧仅跑道区域被刻蚀，靶材利用率偏低；超高纯原料与提纯工艺成本高于普通工业钛靶；加工全程需要洁净管控，防止二次污染。
典型应用
1. 半导体芯片：晶圆金属化粘附层、扩散阻挡层；
2. 先进封装：芯片封装导电薄膜；
3. 高端光学镀膜：精密光学元件、激光器件 TiO₂光学膜；
4. 显示面板：高端 OLED、LCD 功能薄膜；
5. 科研领域：超高纯薄膜材料研发。

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